2018-03-14 09:11:11
產(chǎn)品簡介：
1、派勒納米棒式砂磨機PHN 60 Honor榮耀雙驅(qū)動
榮耀?雙驅(qū)動納米砂磨機 PHN Honor60
新型分離器，特殊的螺旋線設(shè)計（專利產(chǎn)品）
使用0.05mm-1.0mm 研磨介質(zhì)
流量恒定、大流量出料、無堵塞、無漏珠
PHN Honor 特點優(yōu)勢：
PHN Honor 雙驅(qū)動臥式納米研磨機是一款真正的研磨至納米級范圍內(nèi)的高端研磨機器，采用先進的銷棒研磨體系設(shè)計ECM（EConoMize），轉(zhuǎn)子外表面安裝了大量耐磨鋼材質(zhì)的棒銷，與定子形成了研磨腔，MDC(Multiple-zone Dynamic Classifier) 多通道動態(tài)分級輪研磨轉(zhuǎn)子旋轉(zhuǎn)形成強大研磨渦流撞擊和剪切力，將物料經(jīng)動態(tài)分離器 OCS(Open Centrifugal Separation) 循環(huán)研磨，循環(huán)研磨工藝提高了生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量，降低了能耗，產(chǎn)品顆粒級配分布得以優(yōu)化，物料研磨品質(zhì)粒度分布窄，最小研磨細度Dmax< 30nm。對于防金屬污染的物料，可采用氧化鋯陶瓷、碳化硅或聚氨酯結(jié)構(gòu)材料。
PHN Honor 工作原理：
物料隨著進料泵由頂端進入研磨腔，隨著轉(zhuǎn)子的旋轉(zhuǎn)而均勻分布，在轉(zhuǎn)子和定子縫隙內(nèi)渦流離心力的作用下對物料進行了徹底的預(yù)分散處理。在接下來強烈的研磨中，轉(zhuǎn)子棒銷和定子對研磨介質(zhì)連續(xù)發(fā)生劇烈的撞擊變化，研磨介質(zhì)再作用于物料，物料得以研磨，研磨后的物料在研磨腔停留時間特別短，從而得到一個極窄的產(chǎn)品粒度分布帶，在進料泵壓力和離心力作用下，由于密度的不同，研磨介質(zhì)返回研磨腔，物料卻沿著離心力相反的方向經(jīng)動態(tài)分離器過濾分離，循環(huán)往復(fù)于研磨腔內(nèi)，直至物料達到所設(shè)定之細度要求。
PHN Honor 自清潔式分離器：
當研磨完成，需要清洗時只需要將主軸轉(zhuǎn)子停機，從進料處通過泵浦將清洗液體輸入，并開啟旋轉(zhuǎn)分離器電機，根據(jù)物料清洗難易程度調(diào)整轉(zhuǎn)速，清洗液體通過高速旋轉(zhuǎn)的分離器時所帶來的離心力和高強的進液體壓力將殘留在腔體內(nèi)的物料沖洗，從排料口或泄壓口排出，實現(xiàn)砂磨機自動清洗功能。
PHN Honor 60CE：主要應(yīng)用于要求“零污染”及高粘度、高硬度物料的超細研磨及分散：
1) Color paste /Color filter / TFT LCD ：R﹑G﹑B﹑Y 及BM 已成功地分散研磨到納米級，透明度需超過90％，粘度控制在 5-15 CPS，含水率在1％以下。
2) Ink-jet Inks：顏料型Ink-jetInks 已成功地分散研磨到納米級，粘度控制在5 CPS 以下。
3) CMP (chemicalmechanical polish) slurry：半導(dǎo)體晶片研磨所需之研磨液粒徑已達納米級且能滿足無金屬離子析出要求。
4) TiOPc (opticalcontact)：應(yīng)用于雷射列表機光鼓上所涂布光導(dǎo)體，已研磨分散到納米級。
5) 納米級粉體研磨，如TiO2﹑ZrO2﹑Al2O3﹑ZnO﹑Clay﹑CaCo3﹑…，可分散研磨到30nm。
6) 納米級粉體分散。如將納米粉體分散到高分子，或?qū)⒓{米級粉體添加到塑膠﹑橡膠等進行分散。
7) 醫(yī)藥達到納米級要求，且需能滿足FDA 要求。
8) 食品添加劑達到納米級之要求。如β胡蘿卜素…，需滿足GMP 要求。
9) 電子化學品達到納米級需求，且需能滿足無金屬離子析出問題。
10)其他特種軍工, 航空納米材料。
11)如:電子產(chǎn)業(yè)﹑光電產(chǎn)業(yè)﹑醫(yī)藥生化產(chǎn)業(yè)﹑化纖產(chǎn)業(yè)﹑建材產(chǎn)業(yè)﹑金屬產(chǎn)業(yè)﹑﹑磁性材料﹑保健品﹑生物制藥和細胞破碎﹑氧化物﹑納米材料﹑醫(yī)藥生化產(chǎn)業(yè)﹑肥皂、皮革、電子陶瓷、導(dǎo)電漿料、膠印油墨、紡織品、噴繪油墨、芯片拋光液、細胞破碎、化妝品、噴墨墨水、金屬納米材料、塑料材料、特種納米航空材料等行業(yè).
2、實驗室干法研磨機MORPHDHM 20
到目前為止，由于其高能耗和低產(chǎn)出，氣流磨只適用于高附加值的產(chǎn)品。
但是今后很多其他的材料均可以在經(jīng)濟實惠的MORPHDHM裝備上研磨。
經(jīng)濟性是MORPH DHM 系統(tǒng)特點之一（歐盟專利待批）。
跟傳統(tǒng)的氣流磨相比能夠節(jié)能150%。
之前只能通過機械方法研磨的物料，
現(xiàn)在也能通過MORPH DHM干式珠磨機來操作。
操作特征：
1.通過調(diào)整分級器來設(shè)定最終物料的細度，產(chǎn)品顆粒細度D50< 1μm。
2.分級輪通過氣流自動分離物料，無粗顆粒，顆粒粒徑分布精準可調(diào)。
3.所有操作參數(shù)如最終產(chǎn)品的質(zhì)量，MORPH DHM 的轉(zhuǎn)速，動態(tài)分級機的轉(zhuǎn)速及系統(tǒng)內(nèi)空氣的流速及壓力等都智能可控可調(diào)。
主要優(yōu)點：
1.MORPH DHM 與氣流流相比，其經(jīng)濟性能非常吸引人，是干法研磨領(lǐng)域里的一項革新型的創(chuàng)新技術(shù)。
2.干法球磨與動態(tài)離心多次分級同步進行，風輪精確控制粒徑。
3.智能控制系統(tǒng)使得操作過程全自動化。
4.整套裝置安排緊湊，占用空間小。
5.機型結(jié)構(gòu)設(shè)計沒有物料殘留，無損耗。
6.應(yīng)用范圍廣，操作靈活。
7.易于清洗和維護、能耗低。
8.顆粒粒徑分布精準且可控可調(diào)可復(fù)制，產(chǎn)品重復(fù)性高。
9.系統(tǒng)軟件先進，整套系統(tǒng)操控方便容易。
10.采用高抗磨損部件，運行及維護成本低。
3、TRL-B粉液混合高剪切研磨工作站
粉/液體配比進料、大批量粉/液混合、穩(wěn)定的批次質(zhì)量、全程自動化控制、可靠的在線清洗。
一、系統(tǒng)流量：10~20m3/h
二、吸粉量：200~350kg/min(乳清粉) ，60~120kg/min(填料，鈦白粉，硫酸鋇等)
設(shè)備原理
設(shè)備原理利用特殊轉(zhuǎn)子的高速旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生真空，把粉末均勻的吸入料斗或工作腔，并使其均勻的分布在快速流動的液流中，在液流中粉末被瞬間完全濕潤，不產(chǎn)生團聚塊狀物。由于粉末在一開始就被液流均勻濕潤，因此不存在未完全濕潤的粉末，也不會在液流的表面、攪拌軸和容器壁上形成結(jié)皮現(xiàn)象。而傳統(tǒng)工藝易形成硬的結(jié)皮。由此可見，使用 TRL-B 在線彌散式吸料泵系統(tǒng)能使產(chǎn)品的質(zhì)量得到很大的提高。粉塵減少的主要原因是真空由液流產(chǎn)生，所有的粉末都毫無遺留地被導(dǎo)入液流中，傳統(tǒng)處理工藝中所必須的環(huán)保輔助設(shè)施在這里都將不再需要。
只要一臺設(shè)備就能完成所有的工藝步驟：無粉塵無損失的吸粉管進料，能迅速完成加粉、加料、濕潤以及徹底沒有團聚的分散混合。不僅是將粉體濕潤，同時可在真空環(huán)境下將其分散至液體中，防止大量的空氣進入。
設(shè)備特點
1?生產(chǎn)穩(wěn)定均一,可無限重復(fù)驗證。尤其在乳品、飲料、食品和藥品生產(chǎn)工藝中顯得重要。
2?無粉團、無顆粒、無團塊凝集物形成。
3?高效率：與傳統(tǒng)的工藝相比，可縮短約80%的工作時間，極大的提高生產(chǎn)效率，降低生產(chǎn)成本。
4?既廣泛適用連續(xù)自動生產(chǎn)線，也適用于不同的批次生產(chǎn)應(yīng)用場合。
5?特別適用于高黏度，難溶解的物料(黏度可達90，000mPas)。
6?模塊化結(jié)構(gòu)：不需現(xiàn)場安裝調(diào)試而直接使用，大大降低安裝成本。
7?結(jié)構(gòu)緊湊：占用空間小，易于與其他系統(tǒng)整合，節(jié)約投資。
